无尘洁净室的基本常识

随着社会的进步，人们对生活环境、工作环境要求越来越高，洁净室行业也随之变化。朝着节能、**、多元化多方面发展。洁净室亦成为无尘室，它是污染控制的基础，没有无尘洁净室，污染敏感零件不可能批量生产。无尘洁净室被定义为具备空气过滤、分配、优化、构造材料和装置的房间，其中特定的规则的操作程序以控制空气悬浮微粒浓度，从而达到适当的微粒洁净度**。

无尘洁净室的基本常识如下：

1.无尘洁净室是指将一定空间范围内之空气中的微粒子、细菌等之污染物排除，并将室内之温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给予特别设计建成的无尘洁净房间。

2.无尘洁净室的原理。洁净室是利用HEpA、空气净化设备，其尘埃的收集率达99.97~99.99995%之多，因此经过此过滤器过滤的空气可说**干净。洁净室内除了人以外，尚有机器等之发尘源，这些发生的尘埃一旦扩散，即无法保持洁净空间，因此应该利用气流将发生的尘埃迅速排出室外。

3.无尘洁净室中的三尘。无尘洁净室有三大原则：禁尘、带尘、产尘。风淋室作为进入洁净室的缓冲通道之一，是控制带尘的**好净化设备之一，它可以**大限度地减少员工进出无尘洁净室所带来的污染问题。风淋室的两道门电子互锁，可以兼起气闸室的作用，阻止外界污染和未被净化的空气进入无尘洁净区域，达到生产车间所要求的生产洁净环境。

4.无尘洁净室**主要之作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为无尘洁净室。按照**惯例，无尘净化**主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非**没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是*然的要求。

5.每立方米将小于0.5微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了**无尘标准的**。目前应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于**，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K**。